日本将大幅下调专利商标费用

                                                                           来源：国知网

        据日本《产经新闻》报道，日本经济产业省大臣甘利明在2007年知识财产战略本部会议上指出，须重新审视和修订日本工业产权费用制度。日本专利局(JPO)在作相关研究后于2008年1月19日宣布，将下调专利商标申请和续展费用。专利费用下调幅度平均为12%，商标达43%，以减轻大量进行商标注册的中小企业的负担。JPO就此向2008年定期国会(2008年日本定期国会于1月18日开幕，会期150天，预计至6月15日结束)提交修订案，若国会讨论通过，将于2008年6月施行。

　　新费用制下，以10年计，一件专利的维持费将由48万日圆降至43万日圆；20年则由95万日圆降为78万日圆，降幅近20%。一件商标的注册费和续展费(10年缴纳一次)则由13万日圆减为7万日圆。由此，新的费用制度将显著降低长期持有专利权和商标权权利人的经济负担。

　　JPO表示，此次费用下调也是为了应对经济全球化引起的日本技术海外获权的迅猛增长。日本还将建立中小企业外国专利申请费用补助制，各都道府县将负担中小企业国外专利获权费用的50%，以促进其海外获权。2008年度相关补助金预算额共计达1.4亿日圆(约合910万元人民币)，计划资助约150家中小企业的优秀技术获权。(夏佩娟)