第二届知识产权企业年会将于2009年6月召开

来源：中国保护知识产权网

        芝加哥讯——2009年6月21日—23日，全球知识产权领袖将同聚一堂，参加在芝加哥四季酒店举行的第二届知识产权企业年会。此次年会由《智慧资产管理》杂志主办，主要为了迎合负责公司内部知识产权价值创造和管理的高级主管及其顾问的需求而召开的。

　　在当前经济和金融不稳定的时期，关注知识产权资产价值最大化问题对企业而言意义重大。如果能够巧妙管理和开发，知识产权可以减少企业费用、创造底线利润并且增加股东价值。

　　很多高级知识产权主管已经报名参加此次会议，其中包括来自以下公司的代表：美国雅培制药有限公司（Abbott Laboratories），法国阿尔斯通公司（Alstom），日本ARM有限公司，荷兰黑石律师事务所（De Brauw Blackstone Westbroek），美国基尔帕特里克律师事务所（Kilpatrick Stockton），诺基亚（Nokia）和加拿大Smart & Biggar律师事务所。

　　第一届知识产权企业年会于2008年6月在荷兰阿姆斯特丹举行，当时共有400名知识产权领袖参加。（编译自知识产权通讯社）